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硬質陽極氧化
硬質陽極氧化膜一般要求厚度為25-150um，大部分硬質陽極氧化膜的厚度為50-80um，膜厚小于25um的硬質陽極氧化膜，用于齒鍵和螺線等使用場合的零部件，耐磨或絕緣用的陽極氧化膜厚度約為50um，在某些特殊工藝條件下，要求生產厚度為125um以上的硬質陽極氧化膜，但是必須注意陽極氧化膜越厚，其外層的顯微硬度可以越低，膜層表面的粗糙度增加。
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介紹：硬質陽極氧化膜一般要求厚度為25-150um，大部分硬質陽極氧化膜的厚度為50-80um，膜厚小于25um的硬質陽極氧化膜，用于齒鍵和螺線等使用場合的零部件，耐磨或絕緣用的陽極氧化膜厚度約為50um，在某些特殊工藝條件下，要求生產厚度為125um以上的硬質陽極氧化膜，但是必須注意陽極氧化膜越厚，其外層的顯微硬度可以越低，膜層表面的粗糙度增加。硬質陽極氧化的槽液，一般是硫酸溶液以及硫酸添加有機酸，如草酸、氨基磺酸等。另外，可通過降低陽極氧化溫度或降低硫酸濃度來實現硬質陽極氧化處理。對于銅含量大于5%或硅含量大于8%的變形鋁合金，或者高硅的壓鑄造鋁合金，也許還應考慮增加一些陽極氧化的特殊措施。例如：對于2XXX系鋁合金，為了避免鋁合金在陽極氧化過程中被燒損，可采用385g/L的硫酸加上15g/L草酸作為電解槽液，電流密度也應該提高到2.5A/dm以上。
硬質氧化膜的特點：金硬質陽極氧化的前處理和普通的陽極氧化沒有太大差別，除油、堿蝕或者使用ht431無煙兩酸拋光劑等進行化拋都沒有問題。但是其生成的氧化膜和普通氧化膜相比具有以下特點：氧化膜比較厚（一般厚度不小于25um）、硬度比較高（大于350HV）、耐磨性較好、空隙率較低、耐擊穿電壓較高，而表面平整性可能顯得稍差一點。
硬質陽極氧化和普通氧化的原理、設備、工藝和檢測等各方面沒有本質的區別。硬質氧化設法降低氧化膜的溶解性，主要特點為：
a.槽液溫度較低（普通20度左右，硬質5度以下），一般情況下溫度低生成的氧化膜硬度高。
b.槽液濃度低（普通硫酸濃度20%，硬質15%以下），濃度低對膜溶解性小
c.槽液里添加有有機酸，硫酸里面加草酸或者酒石酸等
硬質氧化膜的特點：金硬質陽極氧化的前處理和普通的陽極氧化沒有太大差別，除油、堿蝕或者使用ht431無煙兩酸拋光劑等進行化拋都沒有問題。但是其生成的氧化膜和普通氧化膜相比具有以下特點：氧化膜比較厚（一般厚度不小于25um）、硬度比較高（大于350HV）、耐磨性較好、空隙率較低、耐擊穿電壓較高，而表面平整性可能顯得稍差一點。
硬質陽極氧化和普通氧化的原理、設備、工藝和檢測等各方面沒有本質的區別。硬質氧化設法降低氧化膜的溶解性，主要特點為：
a.槽液溫度較低（普通20度左右，硬質5度以下），一般情況下溫度低生成的氧化膜硬度高。
b.槽液濃度低（普通硫酸濃度20%，硬質15%以下），濃度低對膜溶解性小
c.槽液里添加有有機酸，硫酸里面加草酸或者酒石酸等
d.外加電壓、電流
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